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更新時間：2023-10-16 
瀏覽次數：340我們使用新的制造技術生產物鏡，同時改進了數值孔徑、工作距離和像差校正。 其高數值孔徑（NA）和3 mm工作距離改善了樣品傳輸，使自動化半導體檢測具有更大的通量。 有20倍和50倍物鏡可供選擇。
設計用于明場、暗場、微分干涉對比（DIC）、熒光和簡單偏光觀察方法
結合了高數值孔徑、長工作距離和圖像平場性
有20倍和50倍放大倍率可選，工作距離為3 mm
MXPLFLN50XBD
MXPLFLN50XBD是我們推出的第一款50倍物鏡，其數值孔徑為0.8，工作距離為3 mm。與LMPLFLN100X物鏡相比，由于在50倍放大倍率下的數值孔徑為0.8，所以觀察范圍要大四倍。
MXPLFLN20XBD
MXPLFLN20XBD是我們推出的第一款20倍物鏡，其數值孔徑為0.55，工作距離為3 mm。 該物鏡的高數值孔徑和高圖像平場性可產生非常適合拼接的同質圖像。
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